光(guang)譜(pu)(pu)分(fen)(fen)析(xi)(xi)方法作為一種重要的(de)(de)分(fen)(fen)析(xi)(xi)手(shou)段(duan)，在(zai)科研、生(sheng)產(chan)、質控(kong)等方面都發揮(hui)著極(ji)(ji)大的(de)(de)作用(yong)。無論是(shi)(shi)穿透吸收(shou)光(guang)譜(pu)(pu)，還是(shi)(shi)熒光(guang)光(guang)譜(pu)(pu)，拉曼光(guang)譜(pu)(pu)，獲得單波長輻(fu)射是(shi)(shi)*的(de)(de)手(shou)段(duan)。由(you)于現代單色儀可具有很寬的(de)(de)光(guang)譜(pu)(pu)范圍(wei)（UV-IR），高光(guang)譜(pu)(pu)分(fen)(fen)辨率（0.001nm），自(zi)動(dong)波長掃描，完整電腦控(kong)制功能(neng)，極(ji)(ji)易和其它周邊設備配合為高性能(neng)自(zi)動(dong)測試系統，使用(yong)電腦自(zi)動(dong)掃描多(duo)光(guang)柵(zha)光(guang)譜(pu)(pu)儀已成為光(guang)譜(pu)(pu)研究的(de)(de)。
　　

    當一束復合光線進入光譜儀的入射狹縫，首(shou)先(xian)由光(guang)學準直鏡準直成平行光(guang)，再(zai)通過(guo)衍(yan)射(she)光(guang)柵色(se)散為分開的波長（顏色(se)）。利用不(bu)同波長離開光(guang)柵的角度(du)不(bu)同，由聚焦(jiao)反射(she)鏡再(zai)成像于(yu)出射(she)狹縫(feng)。通過(guo)電腦控制可地改(gai)變出射(she)波長。
 

   在(zai)光譜(pu)學(xue)應用中，獲得單波(bo)(bo)(bo)長(chang)(chang)輻射是(shi)*的(de)手段。除了用單色(se)光源（如光譜(pu)燈、激光器(qi)、發光二極管）、顏色(se)玻(bo)璃和干涉濾光片(pian)外，大都使(shi)用掃(sao)描(miao)選(xuan)擇波(bo)(bo)(bo)長(chang)(chang)的(de)單色(se)儀。尤其是(shi)當前更多地應用掃(sao)描(miao)光柵單色(se)儀，在(zai)連續的(de)寬(kuan)波(bo)(bo)(bo)長(chang)(chang)范圍（白光）選(xuan)出(chu)窄(zhai)光譜(pu)（單色(se)或單波(bo)(bo)(bo)長(chang)(chang)）輻射。

光柵基礎
光柵作為重要的分光器件，他的選擇與性能直接影響整個系統性能。為更好協助用戶選擇，在此做一簡要介紹。
光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂有金屬的表面上機械刻劃而成；復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息通常包括正弦刻槽。刻劃光柵具有衍射效率高的特點，全息光柵光譜范圍廣，雜散光低，且可作到高光譜分辨率。
光柵方程
反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽，一系列平行刻槽的間隔與波長相當，光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產生衍射和干涉。對某波長，在大多數方向消失，只在一定的有限方向出現，這些方向確定了衍射級次。如圖1所示，光柵刻槽垂直輻射入射平面，輻射與光柵法線入射角為α，衍射角為β，衍射級次為m，d為刻槽間距，在下述條件下得到干涉的極大值：
mλ=d（sinα+sinβ）
定義φ為入射光線與衍射光線夾角的一半，即φ=(α-β)/2；θ為相對與零級光譜位置的光柵角，即θ=(α+β)/2,得到更方便的光柵方程：
mλ=2dcosφsinθ
從該光柵方程可看出：
對一給定方向β，可以有幾個波長與級次m相對應λ滿足光柵方程。比如600nm的一級輻射和300nm的二級輻射、200nm的三級輻射有相同的衍射角。
對相同級次的多波長在不同的β分布開。
含多波長的輻射方向固定，旋轉光柵，改變α，則在α+β不變的方向得到不同的波長。
如何選擇光柵
選擇光柵主要考慮如下因素：
刻槽密度G=1/d，d是刻槽間隔，單位為mm。
閃耀波長
閃耀波長為光柵zui大衍射效率點，因此選擇光柵時應盡量選擇閃耀波長在實際需要波長附近。如實際應用在可見光范圍，可選擇閃耀波長為500nm。
光柵刻線
光柵刻線多少直接關系到光譜分辨率，刻線多光譜分辨率高，刻線少光譜覆蓋范圍寬，兩者要根據實驗靈活選擇。